2008年11月25日至27日www.cechina.cn，中国国际展览中心（北京，旧国展）将迎来第五届中国国际机器视觉展览会暨研讨会的召开。

　　目前，展览会及研讨会的准备工作已经基本就绪。研讨会邀请了国内外20多名机器视觉领域专家和学者，为参会代表就机器视觉在各个领域的应用状况和技术要点，以及公司新品和新技术特点等方面进行介绍，力求满足各类人员对视觉市场趋势、新品、新技术、系统应用等诸多方面的了解！

　　截至目前CONTROL ENGINEERING China版权所有，研讨会参会报名人数已达400多人CONTROL ENGINEERING China版权所有，分别来自各类企业的工程技术人员、视觉用户及视觉行业内研发人员、科研人员及高校人员。

　　本届展会展品内容也是一大亮点www.cechina.cn，除国内视觉行业的顶级公司推出自主研发新品外，还有德国 E2V、德国BASLER、日本TELI、西门子等多个国际知名公司的新产品及新技术出展。

　　展览会暨研讨会主办方中国图象图形学学会表示，本届研讨会参会代表免收会费CONTROL ENGINEERING China版权所有，各类机器视觉产品及技术的相关人员都可报名参加！详细内容请点击：VISIONCHINA2008研讨会  

　　注：“VISIONCHINA2008研讨会”链接:http://www.visionchi