TSMC将在日前召开的TSMC技术研讨会上宣布，推出一种面向可制造性设计(DFM)“生态系统”的65纳米设计CONTROL ENGINEERING China版权所有，以及将工艺模型信息带给无生产厂半导体制造商的通用数据格式。此举有望消除无厂设计公司与IDM设计公司之间的差距，IDM设计公司可从它们自有的生产厂获取相关工艺信息。

      TSMC的65纳米兼容设计支持生态系统的核心是DFM统一格式(DUF)，据称能提供光刻工艺检查、关键区域分析及化学机械抛光(CMP)分析需要的所有信息www.cechina.cn，面向90纳米和65纳米工艺的该设计将于7月推出。
为了使用该格式，EDA工具必须经受严格的资格审查www.cechina.cn，包括精确度测试、可用性和运行时间。已拥有合格工具的供应商包括Anchor Semiconductor、Cadence Design Systems、Clear Shape Technologies、Magma Design Automation、Mentor Graphics、Ponte Solutions、Predi

ctions Software及Synopsys。
TSMC设计服务营销高级总监Ed Wan表示：“这是一个巨大的进展，我们不仅仅对付工具，而是应对整个生态系统www.cechina.cn，从而开创了将DFM融入我们设计联盟合作伙伴项目每一个环节当中的局面。”
他表示CONTROL ENGINEERING China版权所有，此举将服务于TSMC与EDA供应商、库和IP提供商以及独立设计中心达成的联盟项目。