在上述所列6项商业任务中，MPC控制器直接通过它的二次目标函数和约束条件可用于第1、3和4条，但是二次函数并不必然地与工厂的赢利函数相匹配。大部分MPC应用是在化工厂和精炼厂的大生产量连续过程中，这些场合强调的重点在于抗拒扰动以保证产品质量符合规范要求。
　　另一方面，进行批量处理的工厂为连接可控性与可赢利性提供了一个良好的机会。对于这些工厂来说有可能定义一个基于成本或赢利的目标函数以描述第1到第5项商业任务。值得注意的是使用真正的利润指示器（如最大化产量）优化批量动态过程例如化学反应器，可追溯到20世纪60年代。在那时由于软件和硬件的限制，实施这样的优化非线性控制器是不切实际的。
    在下一个20年CONTROL ENGINEERING China版权所有，由于流程工业性质的逐步变化，批量控制、纳米加工和生物加工过程会更加被重视。事实上，半导体制造企业最近已经采用了先进的控制技术作为最大化批量生产步骤利润的方法，其中涉及到在很薄的薄膜上进行沉积与蚀刻。改良的过程控制可用于最大化每个晶片的芯片产量，通过最小化生产周期降低设备所有权成本控制工程网版权所有，并减少由于芯片不合规范造成的重新加工。然而在综合的控制策略被制订和执行之前CONTROL ENGINEERING China版权所有，半导体加工设备缺少适当的现场传感器的问题需要得到重视。